AES
Оже-электронная спектроскопия
Оже-электронная спектроскопия AES (ОЭС) - это электронная спектроскопия для химического анализа. Сканирующая оже-электронная микроскопия расширяет этот метод до микроскопии, используя для возбуждения небольшой точечный источник электронов, который сканирует поверхность. Вторичные электроны также представляют собой сканирующую электронную микроскопию (СЭМ).
Небольшой точечный источник электронов генерирует первичные электроны с энергией в несколько кэВ, падающие на поверхность образца. При этом образуется дыра в ядре электрона. Под действием кулоновского взаимодействия электрон из более высокого электронного состояния релаксирует в эту дыру и передает свою энергию другому электрону, который в итоге испускается как электрон Оже, названный в честь Пьера Оже. Эти электроны могут быть использованы для химического анализа поверхности. При сканировании образца создается химическая карта поверхности с боковым разрешением, равным диаметру пятна первичного источника электронов. Оже-электроны сопровождаются вторичными электронами, поэтому вторичная электронная микрофотография также генерируется с аналогичным поперечным разрешением.
Оже-электронная спектроскопия по-прежнему широко используется в качестве альтернативы XPS для химического анализа поверхности. Из-за меньшего на 2-3 порядка размера фокусного пятна, которого могут достичь источники электронов по сравнению с источниками рентгеновского излучения, область анализа значительно меньше. Она настолько мала, что можно записать SEM-изображение (электронная микроскопия) и соотнести его с распределением элементов. Часто для получения дополнительной информации о поверхностных потенциалах и электронной структуре имеет смысл использовать комбинацию ОЖЕ с XPS и UPS.
Универсальная и модернизируемая система AES+XPS для более глубокого анализа поверхности образца.
Эта система предназначена для проведения XPS-анализа с использованием источника рентгеновского излучения в сочетании со сканирующей электронной и оже-микроскопией с источником электронов и детектором вторичных электронов в составе системы анализа. В этой системе сочетаются два метода анализа, что позволяет получить дополнительное более глубокое понимание свойств поверхности образца.
Эта система обеспечивает:
- Высокое разрешение;
- Высокую чувствительность;
- Низкий фон;
- Рентгеновскую спектроскопию;
- Оже-спектроскопию;
- Электронную и оже-микроскопию.
Система AES+XPS позволяет начать с базовой конфигурации и расширять возможности с помощью обновлений для повышения производительности или использования дополнительных методов анализа. Это означает, что система может расширяться в зависимости от дополнительных потребностей.
Также имеется возможность подключения системы к другим высоковакуумным системам, а также адаптации системы для выполнения индивидуальных требований.
Система состоит из следующих элементов:
- Камера для анализа из µ-металла или стальная камера с экранированием µ-металлическими пластинами;
- Полусферический анализатор 150 мм с 2 D-детектором;
- Манипулятор с возможностью перемещения по 5 осям и возможностью нагрева и охлаждения;
- Источник рентгеновского излучения (различные варианты пятен);
- Источник сфокусированных электронов;
- Детектор вторичных электронов;
- Система водяного охлаждения источника и система откачки;
- Камера загрузки для ввода образца с возможностью хранения и нагрева образца;
- Возможность расширения с помощью камеры подготовки образцов или камеры для проведения реакций;
- Система откачки;
- Система отжтга;
- Программное обеспечение для сбора данных, анализа данных, дистанционного управления и возможность автоматизации.
Дополнительные и опциональные элементы
- Ионная пушка для очистки образцов (рекомендуется);
- Ионная пушка для очистки образцов и профилирования по глубине;
- Электронная пушка (FG) для нейтрализации заряда образца;
- Комбинация ионной пушки низких энергий и электронной пушки (FG) для нейтрализации заряда образца;
- Источник ультрафиолетового излучения для измерений UPS;
- Камера для образцов;
- Лазерная указка и цифровая камера.
Основные характеристики
- Универсальная модульная конструкция системы анализа поверхности;
- Оптимизация для достижения наилучших результатов анализа;
- Возможность использования системы с несколькими методами (можно комбинировать с UPS, ISS);
- Простые и эффективные возможности модернизации.